Вакуумно-плазменные процессы и технологии. Ефремов А.М - 256 стр.

потенциалами ионизации ниже, чем у частиц плазмообразующего газа,
импеданс снижается при протекании процесса травления, а затем вновь
принимает первоначальное значение. Чувствительность метода может
быть охарактеризована параметром φ H = U 0 U (U - напряжение на
электродах во время травления, U 0 - после завершения процесса
травления) и зависит от давления газа, ширины разрядного
промежутка, скорости травления и параметров цепи согласования
нагрузки с генератором (рис. 6.5.1,а). В плазме CCl4 при уменьшении
давления импеданс плазмы увеличивается, поэтому чувствительность
метода, равная 1.3 при P = 8 Па, возрастает до значения 2.2 при P = 4
Па. Как видно из рис. 6.5.1,б, чувствительность метода прямо
пропорциональна скорости травления, однако практически не зависит
от скорости потока газа через реактор. На основании этого был сделан
вывод, что основным фактором, определяющим чувствительность,
является концентрация продуктов реакции в газовой фазе. Сравнивая
результаты данного метода с результатами эмиссионной спектроскопии
(рис. 6.5.1,в) можно видеть, что контроль по изменению импеданса
плазмы обеспечивает более раннюю (на 9 сек) регистрацию момента
окончания травления Al в плазме CCl4.




Рис. 6.5.1. Контроль момента окончания ПТХ по изменению импеданса
разрядного промежутка: а - схема измерения, б - зависимость
чувствительности от скорости травления, в - напряжение на электродах
U p и интенсивность излучения AlCl I э при травлении алюминия в
плазме CCl4 (1 и 2 - моменты начала и окончания травления)

     Для регистрации момента окончания удаления фоторезиста в
водородной плазме можно контролировать уровень отраженной ВЧ
мощности,    при    этом    окончание    процесса   соответствует
установившемуся низкому уровню отраженной мощности.
     Для контроля момента окончания травления металлических
диэлектрических пленок может быть использовано измерение тока
датчика, выполненного в виде двух введенных в реактор электродов,
подключенных к внешнему источнику постоянного напряжения.
                                 256