Технологическое оборудование. Громков Н.В. - 5 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

ПГУ | Пенза

Составители: 

Рубрика: 

6 Сводные данные об основных разделах дисциплины и распределении
часов по видам занятий
Количество часов занятий
Аудиторных
Название раздела
лекционных практическ
их
лабораторных самостояте
льных
Введение. Средства получения
вакуума и расчет вакуумных систем.
4
Установки и линии для осаждения
тонких пленок. Оборудование для
выращивания монокристаллов.
6 16 16
Оборудование для резки слитков и
механической обработки п/п
материалов. Оборудование для
диффузии и окисления.
6
Оборудование для процессов ионной
имплантации.
Оборудование для эпитаксии.
6
Оборудование для процессов
фотолитографии. Оборудование для
изготовления толстопленочных
6
Монтажно-сборочное оборудование.
Автоматические поточные линии.
Промышленные роботы. Заключение.
6 1 1
Итого
34 17 17
7 Лекции
Введение. Структура, содержание дисциплины, ее место в подготовке инженера.
Особенности производства полупроводниковых приборов и ИМС и их влияние на
конструкцию оборудования. Основные стадии производства и классификация
оборудования полупроводникового производства.
7.1. Средства получения вакуума и расчет вакуумных систем.
Вакуумная система и ее элементы. Классификация вакуумных насосов и их
характеристики. Механические насосы с масляным уплотнением. Средства получения
высокого вакуума (диффузионные насосы, турбомолекулярные, магниторазрядные,
криогенные). Методика проектирования вакуумной системы.
7.2 Установки и линии для осаждения тонких пленок.
Основные системы и устройства. Установки термического осаждения тонких 
       6 Сводные данные об основных разделах дисциплины и распределении
часов по видам занятий

           Название раздела                        Количество часов занятий
                                                        Аудиторных
                                      лекционных      практическ лабораторных самостояте
                                                      их                      льных
Введение. Средства получения
вакуума и расчет вакуумных систем.          4

Установки и линии для осаждения
тонких пленок. Оборудование для
                                            6                         16            16
выращивания монокристаллов.

Оборудование для резки слитков и
механической обработки п/п
материалов. Оборудование для                6
диффузии и окисления.
Оборудование для процессов ионной
имплантации.                                6
Оборудование для эпитаксии.
Оборудование для процессов
фотолитографии. Оборудование для            6
изготовления толстопленочных
Монтажно-сборочное оборудование.
Автоматические поточные линии.              6                         1             1
Промышленные роботы. Заключение.

Итого                                      34                         17            17


7 Лекции


      Введение. Структура, содержание дисциплины, ее место в подготовке инженера.
 Особенности производства полупроводниковых приборов и ИМС и их влияние на
 конструкцию оборудования. Основные стадии производства и классификация
 оборудования полупроводникового производства.

 7.1. Средства получения вакуума и расчет вакуумных систем.

      Вакуумная система и ее элементы. Классификация вакуумных насосов и их
 характеристики. Механические насосы с масляным уплотнением. Средства получения
 высокого вакуума (диффузионные насосы, турбомолекулярные, магниторазрядные,
 криогенные). Методика проектирования вакуумной системы.

 7.2 Установки и линии для осаждения тонких пленок.

        Основные системы и устройства. Установки термического осаждения тонких

Страницы