ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
Нанесение и сушка
фоторе зиста
Совмещение и
экспонирование
Проявление и промывка
Сушка и задубливание
фоторезистивного слоя
Локальное травление окисла
или металлической пле нки
Снятие фоторезиста
2.2.4. Оборудование для фотолитографии
При наличии фотолитографического оборудования, обеспе-
чивающего автоматическое проведение всех операций, кон-
тактная фотолитография позволяет изготовить элементы с
точностью ±(2…3) мкм.
Сравнительная характеристика установок контактного
совмещения и экспонирования дана в табл. 2.2.
Теоретически возможности фотолитографии определяются
длиной волны используемого света и составляют 0,2 ... 0,3 мкм,
однако на практике они не достигаются.
Ограничение минимального размера обусловлено дифрак
-
ционными эффектами, возникающими из-за наличия зазора
между шаблоном и подложкой, который достигает иногда де-
сятка микрометров.
Реализовать размеры, близкие к теоретическим, удается,
используя гибкие фотошаблоны, которые позволяют свести к
жидкостях: щелочных растворах, кислотах, органических,
растворителях. Использование различных составов для удаления
фоторезистов определяется степенью его задубливания.
Фоторезист ФН-11 снимается в смеси ксилола и толуола.
Позитивные фоторезисты удаляют обработкой:
- в диметилформамиде + ПАВ («Прогресс») (при слабом
задубливании фоторезиста):
- в окисляющих агентах (горячая концентрированная серная
кислота).
Мокрые способы снятия фоторезиста имеют недостатки:
большая трудоемкость, загрязнение подложек продуктами
реакций, зависимость процессов от режимов задубливания.
Сухой метод снятия фоторезиста основан на
плазмохимическом травлении слоя фоторезиста а
кислородосодержащей атмосфере с добавками азота 1 ... 10% и
общем давлением ~ 1 Па или в кислородной плазме ВЧ -
разряда.
2.2.7. Виды брака при фотолитографии
Дефекты фотолитографической обработки можно условно
разбить на три группы по типу нарушения окисной пленки на
кремниевых подложках: сплошные, граничные и
локализованные.
К сплошным дефектам относятся такие нарушения
окислового рельефа, как наличие тонкой пленки «остаточного»
окисла в окнах или, напротив, полное стравливание защитных
участков пленки термической двуокиси кремния.
Граничными дефектами называются
такие нарушения по
краям окисловых окон, как клин, растравы, выступы и т.д. К
этой группе дефектов относятся изменение заданных
геометрических размеров окон и ошибки при совмещении.
Локализованные дефекты: отверстия в окисле («проколы»)
или островки окисла, оставшиеся на вытравленных участках.
Появление таких сплошных дефектов, как стравливание
23 34
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 21
- 22
- 23
- 24
- 25
- …
- следующая ›
- последняя »
