Процессы микро- и нанотехнологий. Ч. 2. Шутов Д.А - 97 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

ИГХТУ | Иваново

Составители: 

Рубрика: 

97
Рис. 1. Фрагменты поэтапного формирования структуры ИС 133ЛА3:
а – химическая обработка поверхности исходных пластин кремния;
б – окисление пластин кремния;
в – фотолитография 1 для вскрытия окон в SiO
2
под диффузию сурьмы;
г – диффузия сурьмы для формирования скрытых n
+
- слоев;
д – эпитаксиальное наращивание n-слоя кремния;
е – окисление пластин; 
Рис. 1. Фрагменты поэтапного формирования структуры ИС 133ЛА3:
а – химическая обработка поверхности исходных пластин кремния;
б – окисление пластин кремния;
в – фотолитография 1 для вскрытия окон в SiO2 под диффузию сурьмы;
г – диффузия сурьмы для формирования скрытых n+ - слоев;
д – эпитаксиальное наращивание n-слоя кремния;
е – окисление пластин;




                                  97

Страницы