Процессы микро- и нанотехнологий. Ч. 1. Шутов Д.А - 62 стр.

оптической плотности фотографического слоя.
      Светочувствительность      к    белому     свету     называется    общей
(фотографической), по отношению к монохроматическому - спектральной, по
отношению к свету прошедшему через светофильтр - эффективной
светочувствительностью.     Общая      светочувствительность,     количественно
выражается числом и проставляется на упаковке фотоматериала, Таблица 1.
      Естественная     светочувствительность     серебряных     фотоматериалов
ограничена УФ и синей зонами оптического излучения 1< 510 нм. Добавочная
светочувствительность фотоматериалов обусловлена введением в фото слой
сенсибилизаторов - органических красителей.
      Сенсибилизированные фотоматериалы, в зависимости от области их
спектральной чувствительности имеют следующие названия - ортохроматические -
до 590 нм; изохроматические - до 650 нм; панхроматические - до 700 нм;
инфрахроматические - 760-920 нм.
      Разрешающая способность характеризует способность фотоматериалов
давать раздельные изображения мелких соседних деталей, обычно линий.
Разрешающая способность фототехнических пленок лежит в пределах 200-300
линий/мм. У специальных штриховых фотоматериалов может достигать 300-500
линий/мм. Высокой разрешающей способностью обладают бессеребряные
фотоматериалы, в которых светочувствительным слоем является диазосоединение.
Диазопленки (ДП) получили широкое применение в производстве фотошаблонов в
силу следующих положительных факторов:
•     проявление ДП осуществляется в парах аммиака,
•     для получения изображения не требуется фиксирования, промывки и сушки,
т.е. исключаются все «мокрые процессы», сопутствующие фотохимической
обработке черно-белых фотоматериалов,
•     проявленная ДП, в местах подвергнутых экспонированию, образует видимое
изображение, не пропускающее УФ свет,
•     разрешающая способность выше, чем у эмульсионных материалов, до 1000
лин/мм.
      Характеристики и требования к фотошаблонам.
      Сложность     изготовления   высококачественных      фотошаблонов     для
распространенной в настоящее время контактной фотолитографии определяется их
высокими фотографическими свойствами и высокой прецизионностью
фотографического изображения.
      В зависимости от способа изготовления ПП, в фоторезисте должен быть
создан рисунок топологии в виде защитного рельефа, либо в виде освобождений.
      В современном производстве наиболее широкое применение получили
пленочные резисты типа СПФ, которые образуют защитный рельеф под действием
актиничного излучения и удаляются в местах, не подвергнутых действию
излучения. Этим свойством резиста обусловлена необходимость изготовления
фотошаблонов как с позитивным изображением рисунка топологии, так и с
негативным изображением рисунка топологии ПП.
      Позитивный рисунок на фотошаблоне отображается в черном цвете.
Негативный рисунок имеет светлое изображение, прозрачное для актиничного
излучения источника экспонирования.
      Из выше сказанного следует, что для получения защитного рельефа в
резисте, соответствующего рисунку топологии ПП, требуется изготовить

                                      62