Методы формирования структур элементов наноэлектроники и наносистемной техники - 18 стр.

UptoLike

Составители:

Рубрика:

Для проведения ДСЛ необходимо, чтобы твердость

материала зонда была выше твердости образца. При

модификации поликарбонатной пленки матрицы компакт диска

(рис. 1.2) происходит вдавливание материала в объем образца на

глубину порядка 100 нм.

Рис. 1.2. АСМ-изображение модифицированной поверхности

поликарбонатной матрицы

Таким образом, для получения качественной модификации

поверхностей различной твердости необходимы: применение

жестких зондов, с минимальным радиусом закругления острия,

выбор области скана поверхности без существенных артефактов

и наименьшими перепадами рельефа по высоте, подготовка

качественного шаблона, а также выбор оптимальных настроек

параметров программы управления СЗМ.

1.2.2. Полевое испарение

При проведении структурирования поверхности методом

полевого испарения происходит ионизация поверхностных

атомов и последующее их испарение за счет электрического