Методы формирования структур элементов наноэлектроники и наносистемной техники - 16 стр.

UptoLike

Составители:

Рубрика:

является то, что данный метод не требует использования

сложного облучающего оборудования. Формирование

топологии производится путем физической деформации резиста

пресс-формой (шаблоном), несущей изображение

наноструктуры. Трафарет с изображением наноструктуры

вдавливается в тонкий слой резиста, покрывающего подложку,

создавая контрастное изображение на слое. Резистом является

термопластичный полимер, который затем, используя

анизотропное реактивное ионное травление, удаляют на

участках малой толщины. Трафаретом может быть штамп,

изготовленный из металла, диэлектрика или полупроводника

методом электронно-лучевой литографии.

Метод нанопечатной литографии является одним из

перспективных методов нанолитографии, с помощью которого

можно получать структуры размером менее 10 нм на больших

областях подложки с высокой точностью и воспроизводимостью

[1, 16].

1.2. Основные методы формирования наноразмерных

структур с помощью сканирующего зондового микроскопа

Возможность использования сканирующих зондовых

микроскопов (СЗМ) для проведения манипуляции атомами,

наноразмерной модификации материалов была открыта сразу

после изобретения сканирующего туннельного микроскопа

(СТМ) [17, 18]. При приложении разности потенциалов между