Методы формирования структур элементов наноэлектроники и наносистемной техники - 24 стр.

UptoLike

24
топологии и модификации поверхности образца происходят
независимо друг от друга. Силы Ван-дер-Ваальса силы
дальнего воздействия и/или силы ближнего воздействия силы
отталкивания используются для отображения рельефа
поверхности, во время приложения импульсов напряжения
зонд-подложка, индуцирующего локальное окисление
поверхности. Другой характеристикой метода ЛАО является
возможность контроля в реальном времени электрических и
топографических характеристик наноразмерных структур во
время их формирования. Метода ЛАО является также более
эффективным по отношению к литографическим методикам
(электронно-лучевая литография), потому не требует
высокоточных операций совмещения, травления, экспонрования
и др.
В работе [34] была показана возможность модификации
гидрогенизированной поверхности кремния с помощью СТМ,
работающего в атмосфере влажного воздуха. Метод ЛАО
совершенствовался и оптимизировался на протяжении
нескольких лет. Так, в [35] для проведения ЛАО применялся
динамический режим АСМ, в котором были сформированы
ОНС с повышенной воспроизводимостью и разрешающей
способностью метода. Селективное окисление H-Si связей
(диффузионных слоев) также было показано в сверхвысоком
вакууме [36].