Методы формирования структур элементов наноэлектроники и наносистемной техники - 42 стр.

UptoLike

42
металлической подложки. Когда зонд АСМ подведен к
поверхности подложки при подаче напряжения к системе зонд-
подложка на кончике АСМ-зонда накапливаются электроны при
этом на границе раздела под точкой контакта зонда АСМ с
подложкой индуцируются эквивалентные им положительные
заряды (рис. 2.2,а). Воздух, насыщенный парами воды и
газообразным кислородом, диссоциирует генерируя ионы OH
-
и
O
2-
вблизи зонда АСМ [63].
Возможен механизм, когда OH
-
и O
2-
ионы не могут
полностью диффундировать через слой природного оксида
MeO
x
, ионы остаются внутри оксидного слоя, формируя оксид
(рис. 2.2,б) [63]. При этом окисление происходит по следующей
реакции:
Me+O
2
→MeO
2
. (2.3)
а
б
Рис. 2.2 Схема возможных механизмов ЛАО металла
Во время проведения локального анодного окисления
существуют три возможности формирования оксидных структур.
Первая рост окисла может происходить на границе металл
оксид, когда ионы кислорода переходят из оксида