Методы формирования структур элементов наноэлектроники и наносистемной техники - 45 стр.

UptoLike

45
Система учитывает рождение и гибель частиц (n
i
) из-за
поглощения УФ квантов (интенсивность излучения I
0
), в
соответствии с химическими реакциями. Коэффициенты А
ikj
и
В
ikjl
представляют константы скоростей для бимолекулярных
реакций и для реакций с участием трех частиц соответственно.
Для выявления наиболее вероятных реакций, протекающих
при ЛАО пленки титана, были проведены термодинамические
расчеты, при этом для каждой возможной реакции была
рассчитана свободная энергия Гиббса
p
o
T
KRTG ln , (2.8)
где R универсальная газовая постоянная, Т абсолютная
температура, К
р
– константа химического равновесия.
Уравнение (2.8) можно упростить, при этом
o
T
G будет
зависеть от энтальпии ,
o
H и энтропии
,
o
S
при этом
изменением величин энтропии и энтальпии при увеличении
температуры можно пренебречь [65, 66]:
ooo
T
STHG
298298
; (2.9)
Расчеты выполнялись для атмосферного давления.
В технологической камере СЗМ при ЛАО пленки Ti в
атмосфере влажного воздуха возможно протекание следующих
реакций:
Ti+O
2
TiO
2
. (2.10)
2Ti+3O
2
2TiO
2
+2O. (2.11)