Вакуумно-плазменные процессы и технологии. Ефремов А.М - 152 стр.

отсутствие взаимодействия с маслами вакуумных насосов, вызывающих
их деградацию, и др.
        Необходимость травления широкого ассортимента материалов и
обеспечение указанных выше требований привело к использованию
большого количества различных газов и их смесей в технологии
плазменного травления.
         Инертные газы применяются в качестве основного компонента
при ионном травлении и входят в состав различных смесей в качестве
инертных разбавителей.
         Фторсодержащие газы нашли наиболее широкое применение при
травлении кремния и его соединений, а также ряда металлов 4-6 группы
Периодической системы Д.И. Менделеева. Чаще всего используются
углеродные галогенсодержащие соединения, имеющие общее название
хладоны (фреоны). Общая формула соединений этого типа имеет вид
C k H l Fm Cl (Br )n , где k , l , m, n - число атомов углерода, водорода, фтора и
хлора (брома) в молекуле хладона. Хладоны обычно распознаются по
номерам, которые записываются как (k − 1)(l + 1)m . Наибольшее
применение из хладонов получил тетрафторметан CF4 (хладон 14).
Общие недостатки этой группы газов - возможность образования
токсичных продуктов в процессе травления, склонность к
полимеризации (особенно для сложных соединений), возможность
образования элементарного углерода на обрабатываемой поверхности
(для простых хладонов). Для подавления двух последних эффектов в
рабочий газ часто добавляют кислород. В то же время широкая
номенклатура хладонов и использование их смесей с другими газами
(кислородом, водородом, азотом и т.д.) позволяет создавать рабочие
смеси, обеспечивающие необходимую скорость, селективность и
анизотропию процесса практически для любых объектов, образующих
газообразные соединения с фтором. Из других фторсодержащих газов
следует отметить шестифтористую серу SF6 , применение которой
позволяет достичь высоких скоростей травления без осаждения на
поверхности твердых продуктов разложения исходного газа. Весьма
перспективными являются также фториды азота (в первую очередь NF3 )
и благородных газов (например, XeF2 ), позволяющие обеспечить
максимальную чистоту процесса плазмохимического травления. Чистый
фтор практически не применяется из-за своей высокой химической
активности по отношению к конструкционным материалам
технологического оборудования и токсичности.
         Хлорсодержащие газы используются для травления металлов и
соединений, не образующих газообразных продуктов с фтором –
полупроводниковые соединения типа A3 B 5 , алюминий, медь и
                                       152