Вакуумно-плазменные процессы и технологии. Ефремов А.М - 212 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

ИГХТУ | Иваново

Составители: 

Рубрика: 

212
Окончание табл. 4.11.1
1 2 3 4 5 6
Ионное травление с
наложением
магнитного поля
(магнетронная система)
Физический 0.001 – 0.01 П
ланарная диодная
или цилиндрическая
гексагональная, маг-
нитное поле лока-
лизовано в области
катода
На электроде, сое-
диненном с ВЧ
генератором (на
катоде)
ВЧ, разряд
постоянного
тока
Реактивное ионное
травление с
наложением
магнитного поля
Химический,
физический
0.001 – 0.01 П
ланарная диодная
или цилиндрическая
гексагональная сис-
тема электродов,
магнитное поле
локализовано в
области катода
Н
а электроде,
соединенном с ВЧ
генератором
ВЧ
Триодная система Химический,
физический
0.001 – 0.01 Планарная триодная На подложкодер-
жателе
ВЧ, разряд
постоянного
тока
Ионно-лучевое
травление
Физический 10
-4
Планарная триодная Н
а заземленном
электроде
разряд пос-
тоянного
тока
Реактивное ионно-
лучевое травление
Химический,
физический
10
-4
Планарная триодная Н
а заземленном
электроде
разряд пос-
тоянного
тока
ЭЦР реактор Химический,
физический
10
-4
Безэлектродная На подложкодер-
жателе
СВЧ
212 
                                                                                          Окончание табл. 4.11.1
                1                  2            3                4                     5               6
      Ионное травление с     Физический   0.001 – 0.01 Планарная диодная      На электроде, сое- ВЧ, разряд
      наложением                                       или цилиндрическая     диненном    с   ВЧ постоянного
      магнитного поля                                  гексагональная, маг-   генератором     (на тока
      (магнетронная система)                           нитное поле лока-      катоде)
                                                       лизовано в области
                                                       катода
      Реактивное ионное     Химический,   0.001 – 0.01 Планарная диодная      На        электроде, ВЧ
      травление с           физический                 или цилиндрическая     соединенном с ВЧ
      наложением                                       гексагональная сис-    генератором
      магнитного поля                                  тема     электродов,
                                                       магнитное       поле
                                                       локализовано       в
212




                                                       области катода
      Триодная система      Химический,   0.001 – 0.01 Планарная триоднаяНа     подложкодер- ВЧ, разряд
                            физический                                   жателе              постоянного
                                                                                             тока
      Ионно-лучевое         Физический    10-4        Планарная триодная На      заземленном разряд пос-
      травление                                                          электроде           тоянного
                                                                                             тока
      Реактивное ионно-     Химический,   10-4        Планарная триодная На      заземленном разряд пос-
      лучевое травление     физический                                   электроде           тоянного
                                                                                             тока
      ЭЦР реактор           Химический,   10-4        Безэлектродная     На     подложкодер- СВЧ
                            физический                                   жателе
                                                      212

Страницы