Вакуумно-плазменные процессы и технологии. Ефремов А.М - 219 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

ИГХТУ | Иваново

Составители: 

Рубрика: 

219
ними: CH
3
·
+ R
·
→CH
3
-R. Ионная бомбардировка вновь активирует это
соединение: CH
3
-R+ Ar
+
→-CH
2
-R + Ar
+
+ Н или CH
3
-R + Ar
+
→ >CH-R +
Ar
+
+ 2Н. Реакции радикалов приводят к дальнейшему росту пленки: -
CH
2
-R + CH
3
·
→СH
3
-CH
2
-R и т.д., а реакции бирадикалов приводят к
поперечному сшиванию и упрочнению полимерной пленки:
│ │
│
CH
3
-CH-R + CH
3
-CH-R→ CH
3
-CH-R
│
│
│
CH
3
-CH-R
│
Аналогичным путем можно получать и фторсодержащие полимерные
пленки. Однако недостатком таких пленок является то, что они
обладают недостаточной чувствительностью к действию актиничного
излучения ввиду большой прочности С-С связей и наличия большого
числа сшивок. Но такие пленки могут быть использованы уже для
защиты готового изделия, причем не обязательно изделия
микроэлектроники. Фторсодержащие антипригарные покрытия –
типичный пример использования таких процессов для производства
изделий бытового назначения.
Высокой чувствительностью к действию актиничного излучения
обладают различно вида карбонильные группы >С=О. Их возбуждение
приводит либо к повышению их реакционной способности, либо к
деструкции, диссоциации макромолекулы. Так, при действии на
полиметилметакрилат (электронрезист) потока электронов происходит
его деструкция с образованием низкомолекулярных продуктов и
существенным улучшением растворимости:
O O
│ ║ │ ║
[-CH
2
-C-C-O-CH
3
]
n
+ e→ [-CH
2
-C-]
n
+ n -C-O-CH
3
+ e
O
│ ║
→ [-CH
2
-C-C-]
n
+ n -O-CH
3
+ e
O
│ ║
→ [-CH
2
-C-C-O-]
n
+ n -CH
3
+ e
Оказалось, что можно получить электронрезист по свойствам
очень близкий к полиметилметакрилату плазменной полимеризацией
мономера – метилметакрилата CH
2
=C(CH
3
)-C(=O)-O-CH
3
– в среде 
ними: CH3·+ R·→CH3-R. Ионная бомбардировка вновь активирует это
соединение: CH3-R+ Ar+→-CH2-R + Ar+ + Н или CH3-R + Ar+→ >CH-R +
Ar+ + 2Н. Реакции радикалов приводят к дальнейшему росту пленки: -
CH2-R + CH3·→СH3-CH2-R и т.д., а реакции бирадикалов приводят к
поперечному сшиванию и упрочнению полимерной пленки:
                     │           │             │
               CH3 -CH-R + CH3-CH-R→ CH3-CH-R
                     │           │             │
                                           CH3-CH-R
                                               │
Аналогичным путем можно получать и фторсодержащие полимерные
пленки. Однако недостатком таких пленок является то, что они
обладают недостаточной чувствительностью к действию актиничного
излучения ввиду большой прочности С-С связей и наличия большого
числа сшивок. Но такие пленки могут быть использованы уже для
защиты готового изделия, причем не обязательно изделия
микроэлектроники. Фторсодержащие антипригарные покрытия –
типичный пример использования таких процессов для производства
изделий бытового назначения.
     Высокой чувствительностью к действию актиничного излучения
обладают различно вида карбонильные группы >С=О. Их возбуждение
приводит либо к повышению их реакционной способности, либо к
деструкции, диссоциации макромолекулы. Так, при действии на
полиметилметакрилат (электронрезист) потока электронов происходит
его деструкция с образованием низкомолекулярных продуктов и
существенным улучшением растворимости:
            O                              O
           │║                     │         ║
     [-CH2-C-C-O-CH3]n + e→ [-CH2-C-]n + n -C-O-CH3 + e


                                    O
                                  │║
                          → [-CH2-C-C-]n + n -O-CH3 + e

                                   O
                                  │║
                          → [-CH2-C-C-O-]n+ n -CH3 + e

     Оказалось, что можно получить электронрезист по свойствам
очень близкий к полиметилметакрилату плазменной полимеризацией
мономера – метилметакрилата CH2=C(CH3)-C(=O)-O-CH3 – в среде


                                     219

Страницы