Процессы микро- и нанотехнологий. Ч. 2. Шутов Д.А - 3 стр.

                                                    Содержание
Лабораторная работа 7 Материалы для полупроводниковых и гибридных
интегральных микросхем ................................................................................................ 5
 Цель работы....................................................................................................................... 5
 Теоретические сведения................................................................................................... 5
 Описание лабораторного макета................................................................................... 13
 Требования к отчету ....................................................................................................... 13
 Лабораторное задание .................................................................................................... 13
 Порядок выполнения работы ........................................................................................ 14
 Контрольные вопросы.................................................................................................... 14
Лабораторная работа 8 Очистка подложек................................................................ 15
 Цель работы..................................................................................................................... 15
 Теоретические сведения................................................................................................. 15
 Описание лабораторного макета и оборудования....................................................... 22
 Требования к отчету ....................................................................................................... 22
 Лабораторное задание .................................................................................................... 23
 Порядок выполнения работы ........................................................................................ 24
 Контрольные вопросы.................................................................................................... 30
Лабораторная работа 9 Технологии получения тонких металлических пленок. 32
 Цель работы..................................................................................................................... 32
 Теоретические сведения................................................................................................. 32
 Описание лабораторного макета................................................................................... 38
 Требования к отчету ....................................................................................................... 43
 Лабораторное задание .................................................................................................... 43
 Порядок выполнения работы ........................................................................................ 44
 Контрольные вопросы.................................................................................................... 48
Лабораторная работа 10 Фотолитография ................................................................. 50
 Цель работы..................................................................................................................... 50
 Теоретические сведения................................................................................................. 50
 Описание лабораторного оборудования ...................................................................... 59
 Требования к отчету ....................................................................................................... 60
 Лабораторное задание .................................................................................................... 60
 Порядок выполнения работы ........................................................................................ 61
 Контрольные вопросы.................................................................................................... 63
Лабораторная работа 11 Изучение технологии изготовления МДП
интегральных микросхем ...............................................................................................64
 Цель работы..................................................................................................................... 64
 Теоретические сведения................................................................................................. 64
 Описание лабораторного оборудования ...................................................................... 81
 Требования к отчету ....................................................................................................... 82
 Лабораторное задание .................................................................................................... 82
 Порядок выполнения работы ........................................................................................ 83
 Контрольные вопросы.................................................................................................... 84
Лабораторная работа 12 Изучение планарно-эпитаксиальной технологии
изготовления полупроводниковых микросхем на биполярных транзисторах....85
 Цель работы..................................................................................................................... 85
 Теоретические сведения................................................................................................. 85
 Описание лабораторного макета................................................................................. 109
 Требования к отчету ..................................................................................................... 109
                                                                 3