Процессы микро- и нанотехнологий. Ч. 2. Шутов Д.А - 4 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

ИГХТУ | Иваново

Составители: 

Рубрика: 

4
Лабораторное задание..................................................................................................109
Порядок выполнения работы ......................................................................................110
Контрольные вопросы..................................................................................................111
Приложение 5. ................................................................................................................113
Таблица П.1...................................................................................................................113
Основные операции технологического маршрута для изготовления структуры ИС
на биполярных транзисторах (Изделие 1 – 133ЛАЗ)................................................113
Таблица П.2...................................................................................................................119
Основные операции технологического маршрута для изготовления структуры БИС
на биполярных транзисторах (Изделие 2 - 1051ХАЗ)...............................................119
Таблица П.3...................................................................................................................129
Виды и причины дефектов (наиболее типичных) на различных операциях
технологического процесса изготовления полупроводниковых микросхем на
биполярных транзисторах............................................................................................129
Список рекомендуемой литературы..........................................................................136 
 Лабораторное задание .................................................................................................. 109
 Порядок выполнения работы ...................................................................................... 110
 Контрольные вопросы.................................................................................................. 111
Приложение 5. ................................................................................................................ 113
 Таблица П.1. .................................................................................................................. 113
 Основные операции технологического маршрута для изготовления структуры ИС
 на биполярных транзисторах (Изделие 1 – 133ЛАЗ). ............................................... 113
 Таблица П.2. .................................................................................................................. 119
 Основные операции технологического маршрута для изготовления структуры БИС
 на биполярных транзисторах (Изделие 2 - 1051ХАЗ)............................................... 119
 Таблица П.3. .................................................................................................................. 129
 Виды и причины дефектов (наиболее типичных) на различных операциях
 технологического процесса изготовления полупроводниковых микросхем на
 биполярных транзисторах............................................................................................ 129
Список рекомендуемой литературы.......................................................................... 136




                                                                 4

Страницы