Процессы микро- и нанотехнологий. Ч. 2. Шутов Д.А - 60 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

ИГХТУ | Иваново

Составители: 

Рубрика: 

60
Рис.3. Центрифуга
для нанесения
жидкого фоторезиста
на подложку:
1-тумблер
включения, 2- диск
центрифуги,
3- место для
подложки;
4- защитный кожух;
5- отверстие для
подачи резиста.
Рис. 4. Установка
экспонирования УФ:
1- смотровое окно;
2- бункер для
загрузки подложек с
неэкспонированным
фоторезистом.
Требования к отчету
Отчет должен содержать:
1. титульный лист;
2. цель работы;
3. краткие сведения по этапам литографического процесса;
4. выводы по работе, отражающие наиболее возможные причины брака;
5. к отчету должны быть приложены образцы обработанных пластин.
Лабораторное задание
Домашняя работа:
1. Ознакомиться с описанием лабораторной работы.
2. Выполнить пункты 1-3 требований к отчету.
3. Изучить теоретические сведения.
4. Подготовиться к ответам на контрольные вопросы.
Работа в лаборатории:
1. Провести последовательность операций литографического процесса и
получить на подложке топологию металлической пленки, заданной шаблоном.
2. Проанализировать полученные образцы и выявить наиболее возможные
причины возникновения брака. 
                                                        Рис.3.   Центрифуга
                                                        для        нанесения
                                                        жидкого фоторезиста
                                                        на подложку:
                                                        1-тумблер
                                                        включения, 2- диск
                                                        центрифуги,
                                                        3-     место     для
                                                        подложки;
                                                        4- защитный кожух;
                                                        5- отверстие для
                                                        подачи резиста.




                                                        Рис. 4. Установка
                                                        экспонирования УФ:
                                                        1- смотровое окно;
                                                        2-     бункер      для
                                                        загрузки подложек с
                                                        неэкспонированным
                                                        фоторезистом.




     Требования к отчету
     Отчет должен содержать:
1.   титульный лист;
2.   цель работы;
3.   краткие сведения по этапам литографического процесса;
4.   выводы по работе, отражающие наиболее возможные причины брака;
5.   к отчету должны быть приложены образцы обработанных пластин.

     Лабораторное задание
     Домашняя работа:
1.   Ознакомиться с описанием лабораторной работы.
2.   Выполнить пункты 1-3 требований к отчету.
3.   Изучить теоретические сведения.
4.   Подготовиться к ответам на контрольные вопросы.
     Работа в лаборатории:
1.   Провести последовательность операций литографического процесса и
     получить на подложке топологию металлической пленки, заданной шаблоном.
2.   Проанализировать полученные образцы и выявить наиболее возможные
     причины возникновения брака.

                                    60

Страницы