ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
11
разрешающей способностью подходят приборы с
автоэмиссионным катодом.
Основными недостатками ЭЛЛ является снижение
разрешающей способности вследствие рассеяния электронов в
обратном направлении, нагрев резиста падающими на него
электронами, а также низкая производительность. Поэтому
возможность уменьшения геометрических размеров
топологического рисунка, наносимого на ПММА пленку,
ограничивается не минимально достижимым диаметром
электронного луча, а размерами указанной области, на которые
существенное влияние оказывают толщина пленки резиста,
материал и проводимость маскирующего слоя, энергия
электронов и ряд других факторов.
1.1.3. Ионно-лучевая литография
Ионная литография является способом формирования
заданного рельефа или топологии с помощью ионного пучка. В
ионно-лучевой литографии применяются ионы водорода (Н
+
) и
ионы гелия (Не
+
). Источником ионов в проекционных системах
обычно служит дуоплазмотрон на легких ионах.
Для создания рисунка в резисте используются три метода:
использующие коллимерованные ионные пучки, остросфокуси-
рованные ионные пучки, ионные проекционные системы. Метод
литографии остросфокусированным пучком характеризуется
более точным управлением пучком. Топология формируется
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 9
- 10
- 11
- 12
- 13
- …
- следующая ›
- последняя »
