Методы формирования структур элементов наноэлектроники и наносистемной техники - 12 стр.

UptoLike

Составители:

Рубрика:

непосредственно на резисте и позволяет исключить

использование дорогостоящих шаблонов.

Острофокусированные ионные пучки также могут

применяться:

 для локального препарирования ИМС и микрообъектов,

а также анализа их внутреннего строения (осуществляется

вытравливанием углубления прямоугольной формы с

последующей ионной полировкой перпендикулярного к

поверхности среза для просмотра);

 реконструкции объектов микроэлектроники и

микромеханики (изменение геометрии микрообъектов,

устранение топологических ошибок);

 изготовления объёмных и планарных микро- и

наноразмерных объектов (вытравливание наноструктур по

шаблону, который создаётся встроенными программными

средствами в векторной или растровой форме);

 исследования морфологии поверхности подложек в

режиме визуализации вторичных электронов, эмитированных

поверхностью при ионной бомбардировке [1,11].

Разрешающая способность технологических операций

препарирования с помощью ионного пучка находится на уровне

десятка нанометров и менее, а разрешение в микроскопическом

режиме наблюдения во вторичных электронах составляет 5 – 7

нм [11].