Методы формирования структур элементов наноэлектроники и наносистемной техники - 5 стр.

UptoLike

Составители:

Рубрика:

МОДУЛЬ 1. ОСНОВНЫЕ МЕТОДЫ НАНОЛИТОГРАФИИ,

ПЕРСПЕКТИВЫ ПРИМЕНЕНИЯ ЗОНДОВЫХ

НАНОТЕХНОЛОГИЙ ПРИ ФОРМИРОВАНИИ

СТРУКТУР ЭЛЕМЕНТОВ НАНОЭЛЕКТРОНИКИ И

НАНОСИСТЕМНОЙ ТЕХНИКИ

Цель модуля: изучение основных методов нанолитографии,

а перспективы применения зондовых нанотехнологий при

формировании структур элементов наноэлектроники и

наносистемной техники.

В ходе первого модуля будут приобретены следующие

компетенционные навыки: знание основных принципов работы,

достоинств и недостатков оптической литографии, электронно-

лучевой литографии, ионно-лучевой литографии, рентгеновской

литографии, литографии в экстремальном ультрафиолете.

Знание основных принципов работы, достоинств и недостатков

методов нанолитографии, основанных на использовании

сканирующего зондового микроскопа: динамическая атомно-

силовая литография, полевое испарение, dip-pen

нанолитография, локальное анодное окисление. Знание

конструкции, структуры и электрических характеристик

устройств наноэлектроники, сформированных методом

локального анодного окисления.