Методы формирования структур элементов наноэлектроники и наносистемной техники - 6 стр.

UptoLike

Составители:

Рубрика:

1.1. Основные методы формирования наноразмерных

структур

В микроэлектронике под литографией понимают

совокупность фото- и физико-химических процессов,

используемых для послойного формирования топологического

рисунка элементов интегральных микросхем (ИМС), а также

структур элементов наноэлектроники [1]. Литография является

одним из основных технологических процессов современного

производства ИМС, вносящих наибольший вклад в

производственные затраты (рис. 1.1) [2].

Современная промышленность ИМС главным образом

использует оптический способ переноса изображения с шаблона

на поверхность подложки. В настоящее время передовыми

компаниями уже освоено производство ИМС с минимальными

размерами (МР) 65 нм [3].

Большие капиталовложения направлены на

финансирование работ по исследованию и разработке

альтернативных методов литографии, использование которых

позволит синтезировать, структурировать и модифицировать

поверхность подложки на уровне близком к атомному, для

создания устройств наноэлектроники и наносистемной техники

с новыми функциональными возможностями, обусловленными

наноразмерами. Требования к будущим методам литографии с

высоким разрешением описаны в обзоре производства ИМС и