ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
7
опубликованы в «International Technology Roadmap for
Semiconductors» [4].
Рис. 1.1. Упрощенная структура затрат на производство ИС
К основным методам структурирования поверхности
подложки относятся: оптическая фотолитография, электоно-
лучевая литография, ионно-лучевая литография, рентгеновская
литография, литография в экстремальном ультрафиолете, а
также несколько видов литографии с помощью сканирующего
зондового микроскопа. Рассмотрим каждый метод литографии
более подробно.
1.1.1. Оптическая литография
В оптической литографии структура на поверхности
подложки формируется путем проекции изображения шаблона с
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 5
- 6
- 7
- 8
- 9
- …
- следующая ›
- последняя »
