Методы формирования структур элементов наноэлектроники и наносистемной техники - 7 стр.

UptoLike

Составители:

Рубрика:

опубликованы в «International Technology Roadmap for

Semiconductors» [4].

Рис. 1.1. Упрощенная структура затрат на производство ИС

К основным методам структурирования поверхности

подложки относятся: оптическая фотолитография, электоно-

лучевая литография, ионно-лучевая литография, рентгеновская

литография, литография в экстремальном ультрафиолете, а

также несколько видов литографии с помощью сканирующего

зондового микроскопа. Рассмотрим каждый метод литографии

более подробно.

1.1.1. Оптическая литография

В оптической литографии структура на поверхности

подложки формируется путем проекции изображения шаблона с