Методы формирования структур элементов наноэлектроники и наносистемной техники - 58 стр.

UptoLike

58
Рис. 2.8. Зависимость скорости роста ОНС титана от толщины
окисла при влажности 70 %: 1 – расчитанная;
2 – экспериментальная; 3 – при ИК-стимуляции; 4 – при
УФ-стимуляции
Рис. 2.9. Зависимость высоты ОНС от времени проведения ЛАО
при различной влажности воздуха: 1 – 50 %; 2 – 70 %; 3 – 90 %;