Процессы микро- и нанотехнологий. Ч. 2. Шутов Д.А - 101 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

ИГХТУ | Иваново

Составители: 

Рубрика: 

101
Продолжение рисунка 2:
з – фотолитография 4 под диффузию бора (перед формированием
разделительных областей);
и – фотолитография 5 под ионное легирование бором;
к – ионное легирование бором для формирования p
+
- областей инжекционных
элементов;
л – термообработка пластин с удаленным фоторезистом после ионного
легирования бором;
м – фотолитография 6 под диффузию бора (перед формированием базовых
областей и p
+
- областей инжекционных элементов); 
Продолжение рисунка 2:
з – фотолитография 4 под диффузию бора (перед формированием
    разделительных областей);
и – фотолитография 5 под ионное легирование бором;
к – ионное легирование бором для формирования p+- областей инжекционных
    элементов;
л – термообработка пластин с удаленным фоторезистом после ионного
    легирования бором;
м – фотолитография 6 под диффузию бора (перед формированием базовых
    областей и p+- областей инжекционных элементов);

                                 101

Страницы