Процессы микро- и нанотехнологий. Ч. 2. Шутов Д.А - 109 стр.

      Описание лабораторного макета
      Для выполнения лабораторной работы используются:
   1. Микроскоп типа ММУ-3.
   2. Две кассеты с макетными образцами. Кассета 1 содержит: три образца,
      отобранные после резки слитка, механической шлифовки и полировки
      пластин кремния; семь образцов – после выполнения различных операций
      технологического процесса изготовления цифровой ИС типа 133ЛА3; два
      образца (№ 11 и 12), предназначенные для измерения параметров слоев ИС.
      Кассета 2 содержит: 12 образцов, отобранных после выполнения различных
      операций технологического процесса изготовления цифро-аналоговой БИС
      типа 1051ХА3.
      Для удобства в работе и возможности размещения в кассетах, макетные
образцы изготавливались из рабочих пластин диаметром 100 мм с применением
скрайбирования и ломки пластин. Приступая к работе, следует помнить, что
макетные образцы очень хрупки, поэтому после рассмотрения их следует сразу же
размещать в кассете. О замеченных поломках следует сообщить преподавателю.

      Требования к отчету
      Отчет должен содержать:
  - титульный лист;
  - цель работы;
  - краткие теоретические сведения;
  - результаты выполнения лабораторного задания, сведенные в формы таблиц 3,
    4, 5, 6;
  - фрагмент эскиза фотошаблона (вид сверху и сбоку) с видом структуры
    полупроводниковой ИС или БИС, для которой используется данный
    фотошаблон;
  - выводы по работе, отражающие возможные причины брака при изготовлении
    микросхем на биполярных транзисторах.

       Лабораторное задание
          Домашнее задание
  1.   Ознакомиться с описанием лабораторной работы.
  2.   Подготовить формы таблиц 3 – 6 для записи результатов.
  3.   Подготовить начальную часть отчета, содержащую: титульный лист, цель
       работы, краткие теоретические сведения.
  4.   Подготовиться к ответам на контрольные вопросы.
  5.   Для выполнения лабораторной работы необходимо иметь: калькулятор,
       линейку, карандаш, ластик.
          Работа в лаборатории
  1.   Изучить      последовательность      операций      при  изготовлении
       полупроводниковых микросхем.
  2.   Изучить технологические операции производства полупроводниковых
       микросхем.
  3.   Измерить параметры слоев полупроводниковой микросхемы.
  4.   Изобразить эскиз фотошаблона (вид сверху и сбоку), необходимого для
       выполнения заданной фотолитографии.
  5.   Ознакомиться с оборудованием и материалами, применяемыми в