Процессы микро- и нанотехнологий. Ч. 2. Шутов Д.А - 123 стр.

UptoLike

Составители: 

123
Продолжение табл. П.2.
1 2 3 4 5 6
10 . Окисление пластин (по
системе сухой O
2
- пары
воды - сухой O
2
).
Аналогично операции 2.
11 . Фотолитография 3 для
вскрытия окон под
диффузию фосфора
(перед формированием
вертикальных
n
+
-областей).
Аналогично операции 3, аз.
12 . Диффузия фосфора для
формирования
вертикальных
n
+
-областей:
а) 1-я стадия диффузии
(загонка примеси при
T=950
0
C);
б) удаление
фосфорносиликатного
стекла (ФСС);
в) удаление SiO
2
;
г) 2-я стадия диффузии
(разгонка с
выращиванием SiO
2
при
T=1050
0
C).
T, t,
М
г
Внешний вид, ρ
s
,
X
j
Хлорокись фосфора (POCl
3
),
кислород газообразный, азот
газообразный, травильный раствор,
спирт этиловый ректификат, вода
деионизованная марки А; фильтр
обеззоленый, батист отбеленный
мерсеризованный.
Печь диффузионная типа ДОМ;
установка для измерения
(четырехзондовая) ρ
s
- типа ЦИУС;
микроскоп типа МИМ-7;
модуль (для травления пластин) из
линии хим. обработки
"Лада-Электроика".
                                                                                                      Продолжение табл. П.2.
 1                  2             3          4                             5                                   6
10 .   Окисление пластин (по
       системе сухой O2 - пары                                      Аналогично операции 2.
       воды - сухой O2).
11 .   Фотолитография 3 для
       вскрытия окон под
       диффузию фосфора                                           Аналогично операции 3, а – з.
       (перед формированием
       вертикальных
       n+-областей).
12 .   Диффузия фосфора для      T, t, Внешний вид, ρs, Хлорокись фосфора (POCl3),           Печь диффузионная типа ДОМ;
       формирования              Мг         Xj          кислород газообразный, азот          установка для измерения
       вертикальных                                     газообразный, травильный раствор,    (четырехзондовая) ρs - типа ЦИУС;
       n+-областей:                                     спирт этиловый ректификат, вода      микроскоп типа МИМ-7;
       а) 1-я стадия диффузии                           деионизованная марки А; фильтр       модуль (для травления пластин) из
       (загонка примеси при                             обеззоленый, батист отбеленный       линии хим. обработки
       T=9500C);                                        мерсеризованный.                     "Лада-Электроика".
       б) удаление
       фосфорносиликатного
       стекла (ФСС);
       в) удаление SiO2;
       г) 2-я стадия диффузии
       (разгонка с
       выращиванием SiO2 при
       T=10500C).




                                                            123