Процессы микро- и нанотехнологий. Ч. 2. Шутов Д.А - 124 стр.

UptoLike

Составители: 

124
Продолжение табл. П.2.
1 2 3 4 5 6
13 . Фотолитография 4 для вскрытия
окон под диффузию бора (перед
формированием разделительных
p-областей).
Аналогично операции 3 , аз.
14 . Диффузия бора для
формирования разделительных
p-областей:
а) 1-я стадия диффузии (загонка
примеси при T=950
0
C);
б) удаление боросиликатного
стекла (БСС);
в) удаление SiO
2
;
г) 2-я стадия диффузии (разгонка
примеси с выращиванием SiO
2
в
сухом O
2
при T=1100
0
C).
T, t,
М
г
Внешний
вид,
ρ
s
, X
j.
Трехбромистый бор, азот
газообразный, кислород
газообразный, раствор для
выявления p-n перехода, травильный
раствор, спирт этиловый
ректификат, вода деионизованная
марки А; батист отбеленный
мерсеризованный.
Аналогично операции 4
15 . Фотолитография 5 для вскрытия
окон в ФР под ионное
легирование бором (перед
формированием донных выступов
p
+
-областей инжекционных
элементов).
Аналогично операции 5.
16 . Ионное легирование бором для
формирования донных выступов
p+-областей инжекционных
элементов.
Аналогично операции 6.
                                                                                                       Продолжение табл. П.2.
 1                      2                  3         4                       5                                  6
13 .   Фотолитография 4 для вскрытия
       окон под диффузию бора (перед
       формированием разделительных                                   Аналогично операции 3 , а – з.
       p-областей).
14 .   Диффузия бора для                  T, t,   Внешний Трехбромистый бор, азот
       формирования разделительных        Мг        вид,    газообразный, кислород
       p-областей:                                 ρs , Xj. газообразный, раствор для
       а) 1-я стадия диффузии (загонка                      выявления p-n перехода, травильный
       примеси при T=9500C);                                раствор, спирт этиловый
       б) удаление боросиликатного                          ректификат, вода деионизованная            Аналогично операции 4
       стекла (БСС);                                        марки А; батист отбеленный
       в) удаление SiO2;                                    мерсеризованный.
       г) 2-я стадия диффузии (разгонка
       примеси с выращиванием SiO2 в
       сухом O2 при T=11000C).
15 .   Фотолитография 5 для вскрытия
       окон в ФР под ионное
       легирование бором (перед                                          Аналогично операции 5.
       формированием донных выступов
       p+-областей инжекционных
       элементов).
16 .   Ионное легирование бором для
       формирования донных выступов                                      Аналогично операции 6.
       p+-областей инжекционных
       элементов.




                                                             124